Produkte >
Präzisionssiebe > Laser-Fotoplotter
Laser-Fotoplotter
Technische Daten Laser-Fotoplotter
- Auflösung max. 25.400 dpi
- Positionsgenauigkeit ± 4 µm über die gesamte Plotfläche von 813 x 711 mm²
- Minimale Linienbreite 10 µm
Laser-Fotoplots für „Fine-Line-Printing“
Zur positionsgenauen Herstellung von Fine-Line-Printing Sieben reicht eine Auflösung zwischen 16.000 und 25.400 dpi vollkommen aus. Höhere Auflösungen bringen keine Qualitätssteigerung und sind nicht wirtschaftlich.Laser-Fotoplots für „Sonderanwendungen“
Selbstverständlich können wir für Sonderanwendungen (z. B. Winkelcodierscheiben) auch Fotoplots mit einer Auflösung bis zu 100.000 dpi und Glasmaster mit 100.000 und 200.000 dpi anbietenDurch geregelte Klimabedingungen wird der Filmverzug minimiert
- 21 °C ± 1 °C
- 50 % ± 5 % relative Luftfeuchtigkeit
Thermischer Ausdehnungskoeffizient des Filmmaterials
- 18 µm pro °C auf 1 m Filmlänge
- 12 µm pro % Luftfeuchte auf 1 m Filmlänge
(eine detaillierte Übersicht hierzu, entnehmen Sie bitte der Tabelle)
Lesbare Datenformate:
- Extended Gerber
- Gerber
- DWG
- DXF
- GDS II
- HPGL
- HPGL2
- IPS-D350
- Barco-DPF
- Orbotech
Vergleich zwischen 8.000 und 20.000 dpi

8.000 dpi

20.000 dpi
Film-, Glas- und Chrommasken
| Filmmaske | Glasmaske | Chrommaske | ||
|---|---|---|---|---|
| Standard | Hohe Auslösung | 2-schichtig niedrige Reflexion |
||
| Substrat | Polyester | Natron-Kalk-Glas | Natron-Kalk-Glas | Natron-Kalk- Glas, Kristallglas |
| Substratdicke | 0,18 mm | 1,6 – 5 mm | 1,6 – 5 mm | 1,6 – 4,8 mm |
| Emulsion | Silberhalogenit | Silberhalogenit | Silberhalogenit | Chrom- beschichtung |
| min. Linienbreite | 10 µm (± 2 µm) | 30 µm (± 3 µm) | 10 µm (± 2 µm) | 5 µm (± 0,8 µm) |
| Längen- abweichung |
± 15 µm | ± 10 µm | ± 3 µm | ± 2 µm |
Filmmaske:
Eigenschaften:
- Kostengünstig
- Einfache Handhabung
- Platzsparende Lagerung
- Einfache Belichtungskontrolle
Glasmaske:
Eigenschaften:
- Gute Maßgenauigkeit
- Keine Veränderung durch Luftfeuchtigkeit
- Hohe Auflösung
- Gute Strukturgenauigkeit
- Hohe Genauigkeit beim Belichtungsprozess
Chrommaske:
Eigenschaften:
- Sehr gute Maßhaltigkeit
- Keine Größenbeeinflussung
durch Luftfeuchte - Sehr gute Strukturgenauigkeit
- Hohe Lebensdauer (Hartchrom-
Beschichtung) - Kein Wärmestau während
der Belichtung - Hohe Genauigkeit beim Belichtungsprozess
- Optimale UV-Beständigkeit
- Auch Kristallglas verfügbar
als Substrat
Weitere Details erhalten Sie jederzeit gerne auf Anfrage.

