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Produkte > Präzisionssiebe > Laser-Fotoplotter

Laser-Fotoplotter

Technische Daten Laser-Fotoplotter

  • Auflösung max. 25.400 dpi
  • Positionsgenauigkeit ± 4 µm über die gesamte Plotfläche von 813 x 711 mm²
  • Minimale Linienbreite 10 µm

Laser-Fotoplots für „Fine-Line-Printing“

Zur positionsgenauen Herstellung von Fine-Line-Printing Sieben reicht eine Auflösung zwischen 16.000 und 25.400 dpi vollkommen aus. Höhere Auflösungen bringen keine Qualitätssteigerung und sind nicht wirtschaftlich.

Laser-Fotoplots für „Sonderanwendungen“

Selbstverständlich können wir für Sonderanwendungen (z. B. Winkelcodierscheiben) auch Fotoplots mit einer Auflösung bis zu 100.000 dpi und Glasmaster mit 100.000 und 200.000 dpi anbieten

Durch geregelte Klimabedingungen wird der Filmverzug minimiert

  • 21 °C ± 1 °C
  • 50 % ± 5 % relative Luftfeuchtigkeit

Thermischer Ausdehnungskoeffizient des Filmmaterials

  • 18 µm pro °C auf 1 m Filmlänge
  • 12 µm pro % Luftfeuchte auf 1 m Filmlänge
    (eine detaillierte Übersicht hierzu, entnehmen Sie bitte der Tabelle)

Lesbare Datenformate:

  • Extended Gerber
  • Gerber
  • DWG
  • DXF
  • GDS II
  • HPGL
  • HPGL2
  • IPS-D350
  • Barco-DPF
  • Orbotech
 

Vergleich zwischen 8.000 und 20.000 dpi

8.000 dpi
8.000 dpi
20.000 dpi
20.000 dpi
 

Film-, Glas- und Chrommasken

  Filmmaske Glasmaske Chrommaske
    Standard Hohe Auslösung 2-schichtig
niedrige Reflexion
Substrat Polyester Natron-Kalk-Glas Natron-Kalk-Glas Natron-Kalk-
Glas, Kristallglas
Substratdicke 0,18 mm 1,6 – 5 mm 1,6 – 5 mm 1,6 – 4,8 mm
Emulsion Silberhalogenit Silberhalogenit Silberhalogenit Chrom-
beschichtung
min. Linienbreite 10 µm (± 2 µm) 30 µm (± 3 µm) 10 µm (± 2 µm) 5 µm (± 0,8 µm)
Längen-
abweichung
± 15 µm ± 10 µm ± 3 µm ± 2 µm

Tabelle drucken

Filmmaske:

Filmmaske

Eigenschaften:

  • Kostengünstig
  • Einfache Handhabung
  • Platzsparende Lagerung
  • Einfache Belichtungskontrolle
 

Glasmaske:

Glasmaske

Eigenschaften:

  • Gute Maßgenauigkeit
  • Keine Veränderung durch Luftfeuchtigkeit
  • Hohe Auflösung
  • Gute Strukturgenauigkeit
  • Hohe Genauigkeit beim Belichtungsprozess
 

Chrommaske:

Chrommaske

Eigenschaften:

  • Sehr gute Maßhaltigkeit
  • Keine Größenbeeinflussung
    durch Luftfeuchte
  • Sehr gute Strukturgenauigkeit
  • Hohe Lebensdauer (Hartchrom-
    Beschichtung)
  • Kein Wärmestau während
    der Belichtung
  • Hohe Genauigkeit beim Belichtungsprozess
  • Optimale UV-Beständigkeit
  • Auch Kristallglas verfügbar
    als Substrat
Maskeneigenschaften drucken

Weitere Details erhalten Sie jederzeit gerne auf Anfrage.



Produktinfos
Für Fragen und technische Auskünfte rund um Präzisionssiebe stehen Ihnen unsere freundlichen und kompetenten Kundenbetreuer zur Verfügung.


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